admin美國近兩年對中國實施晶片制裁措施，中國媒體「鈦媒體 App」指出，光 2022 年被註銷的中國晶片企業就高達 5,746 家，迫使中國只能自主研發晶片。中國《騰訊科技》今 ( 30 ) 日引述資深晶片研究專家汪波的話表示，中國晶片產業不只缺高端的 EUV 光刻機，更包括電子設計自動化設計軟件（EDA）以及複合型研究人才。
汪波指出，中國在晶片研發上第一是缺高端 EUV 光刻機以及相應的半導體材料，現在的極紫外線光刻機（EUV）就像一座小型冰山，佔地約 80 平方米，大量管道和線纜埋在地下10 米深處。荷蘭艾司摩爾公司（ASML Holding N.V.）在 2018 年製造出了人類歷史上最精密的光刻機，但同時也需要向全球數百家供應商採購零部件，而這些供應商分佈在荷蘭、德國、日本、美國等世界各地。
其次，中國還缺電子設計自動化設計軟件（EDA）以及能夠複合型人才。汪波指出，沒有高端的 EUV 光刻機，中國只是造不出最先進的晶片，而沒有了 EDA 設計軟件，所有的晶片設計公司都要停工。目前，中國已經有了華大九天、概倫電子、芯華章等 EDA 廠商，但是體量比起新思科技、楷登電子和西門子 EDA（原明導國際）等 3 大巨頭仍很小，其中的新思科技一家就佔據了約三分之一的市場份額。
荷蘭晶片設備製造商、光刻機巨頭艾斯摩爾公司（ASML Holding）是世界上唯一使用極紫外光刻機製造商。目前中國仍無此技術。 圖 : 翻攝自ASML
除此之外，EDA 行業也需要複合型人才，既要懂編程和算法、又要懂半導體器件或電路等，汪波提及培養起來難且慢。
受到國際情勢影響，中國從國外引進晶片技術的途徑受到限制。汪波認為這反而會促使中國下決心建立自己完整的研發生產鏈條。從短期看，中國產替代可先解決那些對與國計民生影響較大的晶片與器件的依賴，如射頻器件、高性能 Serdes 和 ADC 等；從中期看，突破光刻機和相關材料的技術難關，則會讓中國與世界同步；從遠期看，在新器件（二維器件、碳基晶體管、憶阻器等）、新架構（存內計算、Chiplet 等）方面的前沿領域研究，則有可能讓中國引領世界。
目前全球光刻機市場由荷蘭的艾司摩爾（ASML）、日本的尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家公司壟斷。 翻攝自路透社(資料照)
